CVD TAC కోటింగ్ అంటే ఏమిటి?

మనందరికీ తెలిసినట్లుగా,TaC3880 ° C వరకు ద్రవీభవన స్థానం, అధిక యాంత్రిక బలం, కాఠిన్యం, థర్మల్ షాక్ నిరోధకత; అధిక ఉష్ణోగ్రతల వద్ద అమ్మోనియా, హైడ్రోజన్, సిలికాన్-కలిగిన ఆవిరికి మంచి రసాయన జడత్వం మరియు ఉష్ణ స్థిరత్వం.

CVD TAC పూత, రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ (CVD) యొక్కటాంటాలమ్ కార్బైడ్ (TaC) పూత, అనేది ఒక ఉపరితలంపై (సాధారణంగా గ్రాఫైట్) అధిక-సాంద్రత మరియు మన్నికైన పూతను రూపొందించే ప్రక్రియ. ఈ పద్ధతిలో అధిక ఉష్ణోగ్రతల వద్ద ఉపరితల ఉపరితలంపై TaC ని నిక్షిప్తం చేయడం జరుగుతుంది, దీని ఫలితంగా అద్భుతమైన ఉష్ణ స్థిరత్వం మరియు రసాయన నిరోధకతతో పూత వస్తుంది.

CVD TaC పూత యొక్క ప్రధాన ప్రయోజనాలు:

అత్యంత అధిక ఉష్ణ స్థిరత్వం: 2200°C కంటే ఎక్కువ ఉష్ణోగ్రతలు తట్టుకోగలవు.

రసాయన నిరోధకత: హైడ్రోజన్, అమ్మోనియా మరియు సిలికాన్ ఆవిరి వంటి కఠినమైన రసాయనాలను సమర్థవంతంగా నిరోధించగలదు.

బలమైన సంశ్లేషణ: డీలామినేషన్ లేకుండా దీర్ఘకాలిక రక్షణను నిర్ధారిస్తుంది.

అధిక స్వచ్ఛత: మలినాలను తగ్గిస్తుంది, ఇది సెమీకండక్టర్ అప్లికేషన్‌లకు అనువైనదిగా చేస్తుంది.

సెమీకండక్టర్ తయారీ మరియు అధిక-ఉష్ణోగ్రత పారిశ్రామిక ప్రక్రియలు వంటి తీవ్ర పరిస్థితులకు అధిక మన్నిక మరియు ప్రతిఘటన అవసరమయ్యే వాతావరణాలకు ఈ పూతలు ప్రత్యేకంగా సరిపోతాయి.

పారిశ్రామిక ఉత్పత్తిలో, TaC పూతతో పూసిన గ్రాఫైట్ (కార్బన్-కార్బన్ కాంపోజిట్) పదార్థాలు సాంప్రదాయక అధిక-స్వచ్ఛత గ్రాఫైట్, pBN పూత, SiC పూత భాగాలు మొదలైన వాటిని భర్తీ చేయడానికి చాలా అవకాశం ఉంది. అదనంగా, ఏరోస్పేస్ రంగంలో, TaCకి గొప్ప సామర్థ్యం ఉంది. అధిక-ఉష్ణోగ్రత యాంటీ-ఆక్సిడేషన్ మరియు యాంటీ-అబ్లేషన్ కోటింగ్‌గా ఉపయోగించబడుతుంది మరియు విస్తృత అప్లికేషన్ అవకాశాలు ఉన్నాయి. అయినప్పటికీ, గ్రాఫైట్ ఉపరితలంపై దట్టమైన, ఏకరీతి, నాన్-ఫ్లేకింగ్ TaC పూత తయారీని సాధించడానికి మరియు పారిశ్రామిక భారీ ఉత్పత్తిని ప్రోత్సహించడానికి ఇంకా అనేక సవాళ్లు ఉన్నాయి.

ఈ ప్రక్రియలో, పూత యొక్క రక్షణ యంత్రాంగాన్ని అన్వేషించడం, ఉత్పత్తి ప్రక్రియను ఆవిష్కరించడం మరియు అగ్ర విదేశీ స్థాయితో పోటీపడడం మూడవ తరం సెమీకండక్టర్ క్రిస్టల్ పెరుగుదల మరియు ఎపిటాక్సీకి కీలకం.