CVD SiC ఫోకస్ రింగ్

VeTek సెమీకండక్టర్ ప్రముఖ దేశీయ తయారీదారు మరియు CVD SiC ఫోకస్ రింగ్‌ల సరఫరాదారు, సెమీకండక్టర్ పరిశ్రమ కోసం అధిక-పనితీరు, అధిక-విశ్వసనీయత ఉత్పత్తి పరిష్కారాలను అందించడానికి అంకితం చేయబడింది. VeTek సెమీకండక్టర్ యొక్క CVD SiC ఫోకస్ రింగ్‌లు అధునాతన రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ (CVD) సాంకేతికతను ఉపయోగిస్తాయి, అద్భుతమైన అధిక ఉష్ణోగ్రత నిరోధకత, తుప్పు నిరోధకత మరియు ఉష్ణ వాహకత మరియు సెమీకండక్టర్ లితోగ్రఫీ ప్రక్రియలలో విస్తృతంగా ఉపయోగించబడతాయి. మీ విచారణలు ఎల్లప్పుడూ స్వాగతం.

విచారణ పంపండి

ఉత్పత్తి వివరణ

ఆధునిక ఎలక్ట్రానిక్ పరికరాలు మరియు సమాచార సాంకేతికతకు పునాదిగా, సెమీకండక్టర్ టెక్నాలజీ నేటి సమాజంలో ఒక అనివార్యమైన భాగంగా మారింది. స్మార్ట్‌ఫోన్‌ల నుండి కంప్యూటర్‌లు, కమ్యూనికేషన్ పరికరాలు, వైద్య పరికరాలు మరియు సౌర ఘటాల వరకు దాదాపు అన్ని ఆధునిక సాంకేతికతలు సెమీకండక్టర్ పరికరాల తయారీ మరియు అప్లికేషన్‌పై ఆధారపడతాయి.

ఎలక్ట్రానిక్ పరికరాల యొక్క ఫంక్షనల్ ఇంటిగ్రేషన్ మరియు పనితీరు కోసం అవసరాలు పెరుగుతూనే ఉన్నందున, సెమీకండక్టర్ ప్రక్రియ సాంకేతికత కూడా నిరంతరం అభివృద్ధి చెందుతోంది మరియు మెరుగుపడుతోంది. సెమీకండక్టర్ టెక్నాలజీలో కోర్ లింక్‌గా, ఎచింగ్ ప్రక్రియ నేరుగా పరికరం యొక్క నిర్మాణం మరియు లక్షణాలను నిర్ణయిస్తుంది.

కావలసిన నిర్మాణం మరియు సర్క్యూట్ నమూనాను రూపొందించడానికి సెమీకండక్టర్ యొక్క ఉపరితలంపై ఉన్న పదార్థాన్ని ఖచ్చితంగా తొలగించడానికి లేదా సర్దుబాటు చేయడానికి ఎచింగ్ ప్రక్రియ ఉపయోగించబడుతుంది. ఈ నిర్మాణాలు సెమీకండక్టర్ పరికరాల పనితీరు మరియు కార్యాచరణను నిర్ణయిస్తాయి. ఎచింగ్ ప్రక్రియ నానోమీటర్-స్థాయి ఖచ్చితత్వాన్ని సాధించగలదు, ఇది అధిక-సాంద్రత, అధిక-పనితీరు గల ఇంటిగ్రేటెడ్ సర్క్యూట్‌ల (ICలు) తయారీకి ఆధారం.

CVD SiC ఫోకస్ రింగ్ అనేది డ్రై ఎచింగ్‌లో ఒక ప్రధాన భాగం, ఇది పొర ఉపరితలంపై అధిక సాంద్రత మరియు శక్తిని కలిగి ఉండేలా ప్లాస్మాను కేంద్రీకరించడానికి ప్రధానంగా ఉపయోగించబడుతుంది. ఇది వాయువును సమానంగా పంపిణీ చేసే పనిని కలిగి ఉంటుంది. VeTek సెమీకండక్టర్ CVD ప్రక్రియ ద్వారా SiC పొరను లేయర్‌గా పెంచుతుంది మరియు చివరకు CVD SiC ఫోకస్ రింగ్‌ను పొందుతుంది. సిద్ధం చేయబడిన CVD SiC ఫోకస్ రింగ్ ఎచింగ్ ప్రక్రియ యొక్క అవసరాలను ఖచ్చితంగా తీర్చగలదు.

CVD SiC Focus Ring working diagram

CVD SiC ఫోకస్ రింగ్ యాంత్రిక లక్షణాలు, రసాయన లక్షణాలు, ఉష్ణ వాహకత, అధిక ఉష్ణోగ్రత నిరోధకత, అయాన్ ఎచింగ్ నిరోధకత మొదలైన వాటిలో అద్భుతమైనది.

● అధిక సాంద్రత ఎచింగ్ వాల్యూమ్‌ను తగ్గిస్తుంది

● అధిక బ్యాండ్ గ్యాప్ మరియు అద్భుతమైన ఇన్సులేషన్

● అధిక ఉష్ణ వాహకత, తక్కువ విస్తరణ గుణకం మరియు ఉష్ణ షాక్ నిరోధకత

● అధిక స్థితిస్థాపకత మరియు మంచి యాంత్రిక ప్రభావ నిరోధకత

● అధిక కాఠిన్యం, దుస్తులు నిరోధకత మరియు తుప్పు నిరోధకత

VeTek సెమీకండక్టర్ చైనాలో ప్రముఖ CVD SiC ఫోకస్ రింగ్ ప్రాసెసింగ్ సామర్థ్యాలను కలిగి ఉంది. ఇంతలో, VeTek సెమీకండక్టర్ యొక్క పరిణతి చెందిన సాంకేతిక బృందం మరియు విక్రయాల బృందం వినియోగదారులకు అత్యంత అనుకూలమైన ఫోకస్ రింగ్ ఉత్పత్తులను అందించడంలో మాకు సహాయపడతాయి. VeTek సెమీకండక్టర్‌ని ఎంచుకోవడం అంటే సరిహద్దులను ముందుకు తీసుకురావడానికి కట్టుబడి ఉన్న కంపెనీతో భాగస్వామ్యం కావడంCVD సిలికాన్ కార్బైడ్ ఆవిష్కరణ.

నాణ్యత, పనితీరు మరియు కస్టమర్ సంతృప్తిపై బలమైన ప్రాధాన్యతతో, మేము సెమీకండక్టర్ పరిశ్రమ యొక్క కఠినమైన డిమాండ్‌లకు అనుగుణంగా మాత్రమే కాకుండా వాటిని అధిగమించే ఉత్పత్తులను పంపిణీ చేస్తాము. మా అధునాతన CVD సిలికాన్ కార్బైడ్ సొల్యూషన్స్‌తో మీ కార్యకలాపాలలో ఎక్కువ సామర్థ్యం, విశ్వసనీయత మరియు విజయాన్ని సాధించడంలో మీకు సహాయం చేద్దాం.

CVD SIC ఫిల్మ్ యొక్క SEM డేటా

SEM DATA OF CVD SIC COATING FILM

CVD SiC పూత యొక్క ప్రాథమిక భౌతిక లక్షణాలు

CVD SiC పూత యొక్క ప్రాథమిక భౌతిక లక్షణాలు
ఆస్తి	సాధారణ విలువ
క్రిస్టల్ నిర్మాణం	FCC β ఫేజ్ పాలీక్రిస్టలైన్, ప్రధానంగా (111) ఓరియెంటెడ్
SiC పూత సాంద్రత	3.21 గ్రా/సెం³
SiC పూత కాఠిన్యం	2500 వికర్స్ కాఠిన్యం (500 గ్రా లోడ్)
ధాన్యం పరిమాణం	2~10μm
రసాయన స్వచ్ఛత	99.99995%
ఉష్ణ సామర్థ్యం	640 J·kg^-1·కె^-1
సబ్లిమేషన్ ఉష్ణోగ్రత	2700℃
ఫ్లెక్సురల్ స్ట్రెంత్	415 MPa RT 4-పాయింట్
యంగ్స్ మాడ్యులస్	430 Gpa 4pt బెండ్, 1300℃
ఉష్ణ వాహకత	300W·m^-1·కె^-1
థర్మల్ విస్తరణ (CTE)	4.5×10^-6K^-1