పోరస్ SiC వాక్యూమ్ చక్

చైనాలో ఒక ప్రొఫెషనల్ పోరస్ SiC వాక్యూమ్ చక్ తయారీదారు మరియు సరఫరాదారుగా, Vetek సెమీకండక్టర్ యొక్క పోరస్ SiC వాక్యూమ్ చక్ సెమీకండక్టర్ తయారీ పరికరాల యొక్క ముఖ్య భాగాలలో విస్తృతంగా ఉపయోగించబడుతుంది, ప్రత్యేకించి ఇది CVD మరియు PECVD ప్రక్రియల విషయానికి వస్తే. Vetek సెమీకండక్టర్ అధిక-పనితీరు గల పోరస్ SiC వాక్యూమ్ చక్‌ను తయారు చేయడం మరియు సరఫరా చేయడంలో ప్రత్యేకత కలిగి ఉంది. మీ తదుపరి విచారణలకు స్వాగతం.

విచారణ పంపండి

ఉత్పత్తి వివరణ

Vetek సెమీకండక్టర్ పోరస్ SiC వాక్యూమ్ చక్ ప్రధానంగా సిలికాన్ కార్బైడ్ (SiC), అద్భుతమైన పనితీరుతో కూడిన సిరామిక్ పదార్థంతో కూడి ఉంటుంది. పోరస్ SiC వాక్యూమ్ చక్ సెమీకండక్టర్ ప్రాసెసింగ్ ప్రక్రియలో పొర మద్దతు మరియు స్థిరీకరణ పాత్రను పోషిస్తుంది. ఈ ఉత్పత్తి ఏకరీతి చూషణను అందించడం ద్వారా పొర మరియు చక్ మధ్య దగ్గరగా సరిపోయేలా చేస్తుంది, పొర యొక్క వార్పింగ్ మరియు వైకల్యాన్ని సమర్థవంతంగా నివారించవచ్చు, తద్వారా ప్రాసెసింగ్ సమయంలో ప్రవాహం యొక్క ఫ్లాట్‌నెస్‌ను నిర్ధారిస్తుంది. అదనంగా, సిలికాన్ కార్బైడ్ యొక్క అధిక ఉష్ణోగ్రత నిరోధకత చక్ యొక్క స్థిరత్వాన్ని నిర్ధారిస్తుంది మరియు ఉష్ణ విస్తరణ కారణంగా పొర పడిపోకుండా చేస్తుంది. మరింత సంప్రదించడానికి స్వాగతం.

ఎలక్ట్రానిక్స్ రంగంలో, పోరస్ SiC వాక్యూమ్ చక్‌ను లేజర్ కటింగ్, తయారీ పవర్ పరికరాలు, ఫోటోవోల్టాయిక్ మాడ్యూల్స్ మరియు పవర్ ఎలక్ట్రానిక్ కాంపోనెంట్‌లకు సెమీకండక్టర్ మెటీరియల్‌గా ఉపయోగించవచ్చు. దాని అధిక ఉష్ణ వాహకత మరియు అధిక ఉష్ణోగ్రత నిరోధకత ఎలక్ట్రానిక్ పరికరాలకు ఆదర్శవంతమైన పదార్థంగా చేస్తుంది. ఆప్టోఎలక్ట్రానిక్స్ రంగంలో, పోరస్ SiC వాక్యూమ్ చక్‌ను లేజర్‌లు, LED ప్యాకేజింగ్ మెటీరియల్స్ మరియు సౌర ఘటాలు వంటి ఆప్టోఎలక్ట్రానిక్ పరికరాలను తయారు చేయడానికి ఉపయోగించవచ్చు. దీని అద్భుతమైన ఆప్టికల్ లక్షణాలు మరియు తుప్పు నిరోధకత పరికరం యొక్క పనితీరు మరియు స్థిరత్వాన్ని మెరుగుపరచడంలో సహాయపడతాయి.

Vetek సెమీకండక్టర్ అందించగలదు:

1. పరిశుభ్రత: SiC క్యారియర్ ప్రాసెసింగ్, చెక్కడం, శుభ్రపరచడం మరియు చివరి డెలివరీ తర్వాత, అన్ని మలినాలను కాల్చివేసేందుకు 1200 డిగ్రీల వద్ద 1.5 గంటల పాటు టెంపర్ చేసి, ఆపై వాక్యూమ్ బ్యాగ్‌లలో ప్యాక్ చేయాలి.

2. ఉత్పత్తి ఫ్లాట్‌నెస్: Before placing the wafer, it must be above -60kpa when it is placed on the equipment to prevent the carrier from flying off during rapid transmission. After placing the wafer, it must be above -70kpa. If the no-load temperature is lower than -50kpa, the machine will keep alerting and cannot operate. Therefore, the flatness of the back is very important.

3. గ్యాస్ మార్గం రూపకల్పన: కస్టమర్ అవసరాలకు అనుగుణంగా అనుకూలీకరించబడింది.

కస్టమర్ పరీక్ష యొక్క 3 దశలు:

1. ఆక్సీకరణ పరీక్ష: ఆక్సిజన్ లేదు (కస్టమర్ త్వరగా 900 డిగ్రీల వరకు వేడెక్కుతుంది, కాబట్టి ఉత్పత్తిని 1100 డిగ్రీల వద్ద ఎనియల్ చేయాలి).

2. మెటల్ అవశేషాల పరీక్ష: వేగంగా 1200 డిగ్రీల వరకు వేడెక్కుతుంది, పొరను కలుషితం చేయడానికి లోహపు మలినాలు విడుదల చేయబడవు.

3. వాక్యూమ్ పరీక్ష: వేఫర్‌తో మరియు లేకుండా ఒత్తిడి మధ్య వ్యత్యాసం +2ka (చూషణ శక్తి) లోపల ఉంటుంది.