అధిక స్వచ్ఛత SiC కాంటిలివర్ పాడిల్

అధిక స్వచ్ఛత SiC కాంటిలివర్ పాడిల్ అనేది సెమీకండక్టర్ ప్రాసెసింగ్ పరికరాలలో ఉపయోగించే కీలక భాగం. ఉత్పత్తి అధిక స్వచ్ఛత సిలికాన్ కార్బైడ్ (SiC) పదార్థంతో తయారు చేయబడింది. అధిక స్వచ్ఛత, అధిక ఉష్ణ స్థిరత్వం మరియు తుప్పు నిరోధకత యొక్క అద్భుతమైన లక్షణాలతో కలిపి, ఇది పొర బదిలీ, మద్దతు మరియు అధిక-ఉష్ణోగ్రత ప్రాసెసింగ్ వంటి ప్రక్రియలలో విస్తృతంగా ఉపయోగించబడుతుంది, ప్రక్రియ ఖచ్చితత్వం మరియు ఉత్పత్తి నాణ్యతను నిర్ధారించడానికి నమ్మకమైన హామీని అందిస్తుంది.

సాధారణంగా, అధిక స్వచ్ఛత SiC కాంటిలివర్ పాడిల్ సెమీకండక్టర్ ప్రాసెసింగ్ ప్రక్రియలో క్రింది నిర్దిష్ట పాత్రలను పోషిస్తుంది:

పొర బదిలీ: అధిక స్వచ్ఛత SiC కాంటిలివర్ పాడిల్ సాధారణంగా అధిక-ఉష్ణోగ్రత వ్యాప్తి లేదా ఆక్సీకరణ కొలిమిలలో పొర బదిలీ పరికరంగా ఉపయోగించబడుతుంది. దీని అధిక కాఠిన్యం దానిని ధరించడానికి-నిరోధకతను కలిగిస్తుంది మరియు దీర్ఘ-కాల వినియోగంలో సులభంగా వైకల్యం చెందదు మరియు బదిలీ ప్రక్రియ సమయంలో పొర ఖచ్చితంగా ఉండేలా చేస్తుంది. దాని అధిక ఉష్ణోగ్రత మరియు తుప్పు నిరోధకతతో కలిపి, ఇది పొరలకు ఎటువంటి కాలుష్యం లేదా నష్టం కలిగించకుండా అధిక ఉష్ణోగ్రత వాతావరణంలో ఫర్నేస్ ట్యూబ్‌లోని మరియు వెలుపల పొరలను సురక్షితంగా బదిలీ చేయగలదు.

పొర మద్దతు: SiC పదార్థం ఉష్ణ విస్తరణ యొక్క తక్కువ గుణకం కలిగి ఉంటుంది, అంటే ఉష్ణోగ్రత మారినప్పుడు దాని పరిమాణం తక్కువగా మారుతుంది, ఇది ప్రక్రియలో ఖచ్చితమైన నియంత్రణను నిర్వహించడానికి సహాయపడుతుంది. రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ (CVD) లేదా భౌతిక ఆవిరి నిక్షేపణ (PVD) ప్రక్రియలలో, నిక్షేపణ ప్రక్రియలో పొర స్థిరంగా మరియు ఫ్లాట్‌గా ఉండేలా చేయడానికి పొరకు మద్దతు ఇవ్వడానికి మరియు పరిష్కరించడానికి SiC కాంటిలివర్ పాడిల్ ఉపయోగించబడుతుంది, తద్వారా ఫిల్మ్ యొక్క ఏకరూపత మరియు నాణ్యతను మెరుగుపరుస్తుంది. .

అధిక ఉష్ణోగ్రత ప్రక్రియల అప్లికేషన్: SiC కాంటిలివర్ పాడిల్ అద్భుతమైన ఉష్ణ స్థిరత్వాన్ని కలిగి ఉంటుంది మరియు 1600°C వరకు ఉష్ణోగ్రతలను తట్టుకోగలదు. అందువల్ల, ఈ ఉత్పత్తి అధిక ఉష్ణోగ్రత ఎనియలింగ్, ఆక్సీకరణ, వ్యాప్తి మరియు ఇతర ప్రక్రియలలో విస్తృతంగా ఉపయోగించబడుతుంది.

అధిక స్వచ్ఛత SiC కాంటిలివర్ పాడిల్ యొక్క ప్రాథమిక భౌతిక లక్షణాలు:

అధిక స్వచ్ఛత SiC కాంటిలివర్ పాడిల్దుకాణాలు:

సెమీకండక్టర్ చిప్ ఎపిటాక్సీ పరిశ్రమ గొలుసు యొక్క అవలోకనం: